高速ランプアニール装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | UT-802 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | 高速ランプアニール装置 (Lamp Annealer) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | 米倉製作所 (YONEKURA MFG) |
| 型番 | MS-HP2-9 |
| キーワード | 加熱、アニール |
| 仕様・特徴 | φ3inchまで（条件によってφ4inchまで可能）。大気および窒素雰囲気。昇温速度200℃/minまで、到達温度1000℃まで可能。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-802 |
