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高速ランプアニール装置

設備ID	UT-802
分類	熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
装置名称	高速ランプアニール装置 (Lamp Annealer)
設置機関	東京大学
設置場所	武田先端知クリーンルーム
メーカー名	米倉製作所 (YONEKURA MFG)
型番	MS-HP2-9
キーワード	加熱、アニール
仕様・特徴	φ3inchまで（条件によってφ4inchまで可能）。大気および窒素雰囲気。昇温速度200℃/minまで、到達温度1000℃まで可能。