川崎ブランチECRスパッタリング装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | UT-702 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | 川崎ブランチECRスパッタリング装置 (Electron-Cyclotron Resonance (ECR) Ion Beam Sputter Deposition System, EIS-230W) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 川崎ブランチ |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | EIS-230W |
| キーワード | スパッタ |
| 仕様・特徴 | ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。 109と比較して高周波の高密度プラズマを用いているところが違いです。 ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。φ100以下の基板用 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-702 |
