川崎ブランチECRスパッタリング装置
| 設備ID | UT-702 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 装置名称 | 川崎ブランチECRスパッタリング装置 (Electron-Cyclotron Resonance (ECR) Ion Beam Sputter Deposition System, EIS-230W) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 川崎ブランチ |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | EIS-230W |
| キーワード | スパッタ |
| 仕様・特徴 | ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。 109と比較して高周波の高密度プラズマを用いているところが違いです。 ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。φ100以下の基板用 |
