XeF2ドライエッチングシステム
最終更新日：2022年6月7日
| 設備ID | UT-609 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > ガスエッチング |
| 設備名称 | XeF2ドライエッチングシステム (XeF2 Dry Etching System) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | |
| メーカー名 | サムコ株式会社 (SAMCO Inc.) |
| 型番 | VPE-4F |
| キーワード | XeF2, ガスエッチング |
| 仕様・特徴 | MEMSの中空構造が得られるXeF2ガスを用いドライエッチング装置 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-609 |
