汎用NLDエッチング装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | UT-608 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | 汎用NLDエッチング装置 (Neutral Loop Discharge (NLD) plasm dry etching system) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (ULVAC) |
| 型番 | NLD-5700Si |
| キーワード | プラズマエッチング |
| 仕様・特徴 | ガラスの深掘りが可能なニュートラルループディスチャージ（NLD）エッチング装置。当面は技術補助のみ。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-608 |
