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汎用平行平板RIE装置

設備ID	UT-606
分類	膜加工・エッチング > プラズマエッチング
装置名称	汎用平行平板RIE装置 (Reactive Ion Etching system)
設置機関	東京大学
設置場所	武田先端知クリーンルーム
メーカー名	サムコ (SAMCO)
型番	RIE-10NR
キーワード	プラズマエッチング
仕様・特徴	8”装置。SF6, CHF3, CF4, Ar, O2によるエッチングが可能。ヘリウム背圧冷却が不要