汎用高品位ICPエッチング装置
設備ID | UT-603 |
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分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
装置名称 | 汎用高品位ICPエッチング装置 ( ICP-RIE machine) |
設置機関 | 東京大学 |
設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
メーカー名 | アルバック (ULVAC) |
型番 | NE-550 |
キーワード | プラズマエッチング |
仕様・特徴 | CE-300Iの上位機種(ULVACのフラッグシップモデル)です。大津・八井研究室の協力により利用可能になりました。SiO2、ガラスのエッチングも可能です。 4”装置 塩素・フッ素系汎用。 Cl2, BCl3, Ar, O2, CF4,CHF3, SF6, C3F8 |