汎用高品位ICPエッチング装置
最終更新日：2023年6月29日
| 設備ID | UT-603 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | 汎用高品位ICPエッチング装置 ( ICP-RIE machine) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (ULVAC) |
| 型番 | NE-550 |
| キーワード | プラズマエッチング |
| 仕様・特徴 | CE-300Iの上位機種（ULVACのフラッグシップモデル）です。大津・八井研究室の協力により利用可能になりました。SiO2、ガラスのエッチングも可能です。 4”装置 塩素・フッ素系汎用。 Cl2, BCl3, Ar, O2, CF4，CHF3, SF6, C3F8 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-603 |
