川崎ブランチ化合物用エッチング装置
設備ID | UT-601 |
---|---|
分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
装置名称 | 川崎ブランチ化合物用エッチング装置 (Inductively Coupled Plasma (ICP) Dry Etching System, ) |
設置機関 | 東京大学 |
設置場所 | 川崎ブランチ |
メーカー名 | オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments) |
型番 | Plasma Pro 100 ICP-180 |
キーワード | プラズマエッチング |
仕様・特徴 | 誘導結合プラズマ(ICP)によるエッチング装置です。 化合物半導体基板(GaAs,InP,GaN等)を得意とします。4”丸型ウエーハ導入可能。 導入ガス種:Ar,O2,H2,CH4,N2,Cl2,SF6,He |