汎用ICPエッチング装置
| 設備ID | UT-600 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 装置名称 | 汎用ICPエッチング装置 (General purpose ICP etching machine) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (ULVAC) |
| 型番 | CE-300I |
| キーワード | プラズマエッチング |
| 仕様・特徴 | 誘導性結合プラズマ（ICP）エッチング装置で、こちらは汎用装置。 4”丸型ウエーハの入る装置。 利用可能ガスは、アルゴン、SF6、CF4、CHF3、O2。 主に酸化膜のエッチングや、イオンミリングによる金属のエッチングに利用。 |
