汎用ICPエッチング装置
最終更新日：2022年6月7日
| 設備ID | UT-600 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | 汎用ICPエッチング装置 (General purpose ICP etching machine) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (ULVAC) |
| 型番 | CE-300I |
| キーワード | プラズマエッチング |
| 仕様・特徴 | 誘導性結合プラズマ（ICP）エッチング装置で、こちらは汎用装置。 4”丸型ウエーハの入る装置。 利用可能ガスは、アルゴン、SF6、CF4、CHF3、O2。 主に酸化膜のエッチングや、イオンミリングによる金属のエッチングに利用。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-600 |
