電子線描画用近接効果補正ソフト
最終更新日：2023年6月29日
| 設備ID | UT-508 |
|---|---|
| 分類 |
リソグラフィ > その他 理論計算・シミュレーション > シミュレーション |
| 設備名称 | 電子線描画用近接効果補正ソフト (Procxymity effect correction for electron beam lithography) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | |
| メーカー名 | GenISys (GenISys GmbH) |
| 型番 | Beamer |
| キーワード | 近接効果補正、パターンデータ変換、グレースケール露光用データ生成 |
| 仕様・特徴 | 電子線描画時に生じる近接効果を補正して設計通りのレズストパターンを電子線で描画するためのパターン補正システム。グレースケール露光用のデータ生成が可能。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-508 |