光リソグラフィ装置MA-6
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | UT-504 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 光リソグラフィ装置MA-6 (MA6 Suss 6” Mask Aligner) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | ズースマイクロテック (SUSS MicroTec) |
| 型番 | MA6 |
| キーワード | マスク露光 |
| 仕様・特徴 | 精密な位置合わせ（表裏1ミクロン精度）が可能で、欠片から6インチまでの露光が可能なマスクアライナー。普段は混合で利用していますが必要であればi線フィルターをかけることができます。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-504 |
