超高速大面積電子線描画装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | UT-503 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | アドバンテスト (ADVANTEST) |
| 型番 | F7000S-VD02 |
| キーワード | 電子線描画 電子線露光 EB 可変整形ビーム キャラクタープロジェクション |
| 仕様・特徴 | カケラから8インチ丸基板までの任意形状に対応。R２年度補正予算改造により、更に高速性がアップしました。 （厚みに制限あり。ご相談ください） 可変整形ビーム（VSBモード）による、高速描画が可能 内蔵ステンシル（CPモード）による、階段近似の無い滑らかな曲線等の高速描画が可能。 データはGDS-IIストリームフォーマットから変換 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-503 |
