高速大面積電子線描画装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | UT-500 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | アドバンテスト (ADVANTEST) |
| 型番 | F5112＋VD01 |
| キーワード | 電子線描画 電子線露光 EB 可変整形ビーム キャラクタープロジェクション |
| 仕様・特徴 | ・長方形・矩形の大きさを任意に変更してショットする(可変整形)ことのできる高速電子線描画装置。 ・カケラ基板から8インチ丸基板までの任意形状に対応 ・加速電圧50kV |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-500 |
