多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)
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最終更新日：2024年8月28日
| 設備ID | UT-301 |
|---|---|
| 分類 | 状態分析（各種分光法（元素分析・振動モード・電子状態）を含む） > X線光電子分光 （XPS（硬X線を含む）） |
| 設備名称 | 多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS) (rX-ray Photoelectron Spectroscopy) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 東京大学浅野キャンパス工学部9号館 |
| メーカー名 | アルバックファイ㈱ (ULVAC-PHI, Inc. ) |
| 型番 | PHI 5000 VersaProbe |
| キーワード | ・表面分析 ・光電子分光 |
| 仕様・特徴 | □ 主な特長 ・ 走査型マイクロフォーカスＸ線源による微小領域分析（最小分析領域10μm） ・ ＳＸＩ(Scanning X-ray Image)により、正確・迅速に微小な分析位置を特定 ・ 低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和 ・ 5軸（X、Y、Z、Tilt、Rotation）モータ駆動による多点分析 □ 主な仕様 ・ 最小ビーム径：10μｍ以下 ・ 最高エネルギー分解能：0.5eV以下(Ag3d 5/2) ・ 最大感度：1,000,000cps(Ag3d 5/2の半値幅1.0eVのとき) ・ 到達圧力：6.7×10-8Pa以下 |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-301 |
