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多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)

設備ID UT-301
分類 状態分析(各種分光法(元素分析・振動モード・電子状態)を含む) > X線光電子分光 (XPS(硬X線を含む))
装置名称 多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS) (rX-ray Photoelectron Spectroscopy)
設置機関 東京大学
設置場所 東京大学浅野キャンパス工学部9号館
メーカー名 アルバックファイ㈱ (ULVAC-PHI, Inc. )
型番 PHI 5000 VersaProbe
キーワード ・表面分析
・光電子分光
仕様・特徴 □ 主な特長
・ 走査型マイクロフォーカスX線源による微小領域分析(最小分析領域10μm)
・ SXI(Scanning X-ray Image)により、正確・迅速に微小な分析位置を特定
・ 低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和
・ 5軸(X、Y、Z、Tilt、Rotation)モータ駆動による多点分析
□ 主な仕様
・ 最小ビーム径:10μm以下
・ 最高エネルギー分解能:0.5eV以下(Ag3d 5/2)
・ 最大感度:1,000,000cps(Ag3d 5/2の半値幅1.0eVのとき)
・ 到達圧力:6.7×10-8Pa以下
    多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)
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