粉末X線回折装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | UT-203 |
|---|---|
| 分類 | 回折・散乱 > X線回折 |
| 設備名称 | 粉末X線回折装置 (XRD) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 東京大学浅野キャンパス工学部9号館 |
| メーカー名 | ㈱リガク (Rigaku Co.) |
| 型番 | SmartLab (3kW) |
| キーワード | 集中法 平行ビーム法 高温炉 定性分析 定量分析 結晶化度 |
| 仕様・特徴 | □ 主な特長 ・ 粉末試料測定に適した集中法光学系，薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系。 ・ In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したＸ線回折装置。 ・ 900℃までの高温測定用アタッチメントも用意している。 □ 主な仕様 ・ X線源：3 kW封入型Ｘ線管/Cuターゲット ・ 光学系：集中法・多層膜平行ビーム法・インプレーン光学系 ・ 検出器：シンチレーション検出器：1次元半導体検出器 ・SmartLab用AntonPaarDHS900アタッチメント |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-203 |
