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高輝度In-plane型X線回折装置

最終更新日:2024年4月5日
設備ID UT-202
分類 回折・散乱 > X線回折
設備名称 高輝度In-plane型X線回折装置 (XRD)
設置機関 東京大学
設置場所 東京大学浅野キャンパス工学部9号館
メーカー名 ㈱リガク (Rigaku Co.)
型番 SmartLab(9kW)
キーワード In-Plane
Out-of-Plane
HyPix-3000
XRR
逆格子マップ
極点図
ロッキングカーブ
配向
膜厚
仕様・特徴 □ 主な特長
・ 高輝度X線源 及び In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したX線回折装置。
・ 粉末試料測定に適した集中法光学系,薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系によるX線反射率測定,逆格子マップ測定,ロッキングカーブ測定などを簡単なユニット交換で組み替えて利用することが可能。
・ インプレーンアームの搭載により、極薄膜の評価や完全極点測定が可能。
□ 主な仕様
・ X線源:9kW回転対陰極X線発生装置A/Cuターゲット
・ 光学系:集中法・多層膜平行ビーム法・薄膜高分解平行ビーム法・インプレーン光学系
・ 検出器:HyPix-3000
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-202
    高輝度In-plane型X線回折装置
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