共用設備検索

CADデータ連動3次元機能融合デバイス評価用前処理システム

最終更新日:2024年4月5日
設備ID UT-152
分類 微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB)
設備名称 CADデータ連動3次元機能融合デバイス評価用前処理システム (Preprocessing system for device evaluation that integrates 3D functions linked with CAD data)
設置機関 東京大学
設置場所 東京大学浅野キャンパス武田先端知ビルスーパークリーンルーム
メーカー名 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
型番 XVision200TB
キーワード 微細加工・配線修理
断面観察・TEM試料作製
仕様・特徴 □ 主な特徴
・デバイス評価用前処理システム
・透過電子顕微鏡用薄膜試料作製にも対応
□ 主な仕様
・ FIB分解能:4nm@30kV、最大電流45nA
・ SEM分解能:3nm@5kV、加速電圧1~30kV
・ 最大8インチステージ
・ Arビーム照射
・ W,C,絶縁膜デポ XeF,有機系エッチングガス
・ CADデータオーバレイ表示
・ レーザー顕微鏡と共通の座標系
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-152
    CADデータ連動3次元機能融合デバイス評価用前処理システム
    CADデータ連動3次元機能融合デバイス評価用前処理システム
印刷する
PAGE TOP
スマートフォン用ページで見る