CADデータ連動3次元機能融合デバイス評価用前処理システム
最終更新日:2024年4月5日
設備ID | UT-152 |
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分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB) |
設備名称 | CADデータ連動3次元機能融合デバイス評価用前処理システム (Preprocessing system for device evaluation that integrates 3D functions linked with CAD data) |
設置機関 | 東京大学 |
設置場所 | 東京大学浅野キャンパス武田先端知ビルスーパークリーンルーム |
メーカー名 | 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech) |
型番 | XVision200TB |
キーワード | 微細加工・配線修理 断面観察・TEM試料作製 |
仕様・特徴 | □ 主な特徴 ・デバイス評価用前処理システム ・透過電子顕微鏡用薄膜試料作製にも対応 □ 主な仕様 ・ FIB分解能:4nm@30kV、最大電流45nA ・ SEM分解能:3nm@5kV、加速電圧1~30kV ・ 最大8インチステージ ・ Arビーム照射 ・ W,C,絶縁膜デポ XeF,有機系エッチングガス ・ CADデータオーバレイ表示 ・ レーザー顕微鏡と共通の座標系 |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-152 |