集束イオン／電子ビーム 複合ビーム加工観察装置
本設備の共用は終了しています。
後継の設備や同様の設備は、「共用設備検索」から検索するか「技術サポート・機器利用のお問い合わせ」よりお問い合わせください。
最終更新日：2024年8月28日
| 設備ID | UT-151 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 設備名称 | 集束イオン／電子ビーム 複合ビーム加工観察装置 (Focused Ion Beam System) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 東京大学浅野キャンパス工学部9号館 |
| メーカー名 | 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.) |
| 型番 | JIB-4600F |
| キーワード | 試料作製、断面試料、電子顕微鏡、半導体、セラミックス、SEM、TEM、STEM |
| 仕様・特徴 | □ 特長 ・ 高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能 ・ 高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能 ・ インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 200nA の大電流による安定した高速分析が可能 □ 主な仕様 FIB（収束イオンビーム） ・ イオン源：Ga液体金属イオン源 ・ 加速電圧：1～30kV ・ 倍率：×30（視野探し）、×100～×300,000 ・ イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット SEM（電子ビーム） ・ 加速電圧：0.2～30kV ・ 倍率：×20～×1,000,000 ・ 像分解能：1.2nm（加速電圧30kV）、3.0nm（加速電圧1kV） |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-151 |
