4インチウェハ研磨装置
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-260 |
|---|---|
| 分類 | 組立・パッケージング > 研磨(化学、機械) |
| 設備名称 | 4インチウェハ研磨装置 (4 wafer polisher) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 3Fクリーンルーム |
| メーカー名 | BNテクノロジー (BN technology) |
| 型番 | Bni52 |
| キーワード | Si、SiO2、金属などの研磨、CMP |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：4インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-260 |
