KOHエッチング槽
最終更新日:2022年4月9日
設備ID | TU-217 |
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分類 | 膜加工・エッチング > ウェットエッチング |
設備名称 | KOHエッチング槽 (KOH etching) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 3Fクリーンルーム |
メーカー名 | - (-) |
型番 | - |
キーワード | Si結晶異方性アルカリウェットエッチング |
仕様・特徴 | サンプルサイズ・同時処理枚数:4インチ×10枚、6インチ×10枚 |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-217 |