アネルバRIE装置
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-208 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | アネルバRIE装置 (Anelva RIE) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | アネルバ (Anelva) |
| 型番 | DEA-506 |
| キーワード | Si、SiO2、SiNエッチング用のバッチ式のRIE |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ・同時処理枚数：4インチ×12枚、6インチ×5枚、8インチ×3枚 基板固定方式：静置 プラズマ方式：CCP ガス：CF4、CHF3、Ar、O2 メタルマスク（Al、Crなど）不可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-208 |
