アルバックICP-RIE#2
設備ID | TU-206 |
---|---|
分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
装置名称 | アルバックICP-RIE#2 (Ulvac ICP-RIE#2) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
メーカー名 | アルバック (Ulvac) |
型番 | CE-300I |
キーワード | SiO2、メタル、圧電体などの多目的ドライエッチング、通常4インチ用 |
仕様・特徴 | サンプルサイズ:小片~4インチ、または、6インチ 基板固定方式:静電チャック プラズマ方式:ICP ガス:CF4、CHF3、SF6、C4F8、Ar、O2、N2、Cl2、BCl3 |