アルバックICP-RIE#2
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-206 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | アルバックICP-RIE#2 (Ulvac ICP-RIE#2) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (Ulvac) |
| 型番 | CE-300I |
| キーワード | SiO2、メタル、圧電体などの多目的ドライエッチング、通常4インチ用 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～4インチ、または、6インチ 基板固定方式：静電チャック プラズマ方式：ICP ガス：CF4、CHF3、SF6、C4F8、Ar、O2、N2、Cl2、BCl3 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-206 |
