MOCVD
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | TU-171 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | MOCVD (MOCVD) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | ワコム研究所 (Wacom) |
| 型番 | Doctor-T' |
| キーワード | PZTの成膜の成膜等 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：最大8インチ 3液気化システム 基板温度：最高650℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-171 |
