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MOCVD

設備ID	TU-171
分類	成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置
装置名称	MOCVD (MOCVD)
設置機関	東北大学
設置場所	東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名	ワコム研究所 (Wacom)
型番	Doctor-T'
キーワード	PZTの成膜の成膜等
仕様・特徴	サンプルサイズ：最大8インチ 3液気化システム基板温度：最高650℃