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超伝導量子干渉型磁束計 (Magnetic Property Measurement System)

設備ID
UE-001
設置機関
電気通信大学
設備画像
超伝導量子干渉型磁束計
メーカー名
Quantum Design (Quantum Design)
型番
MPMS-XL7
仕様・特徴
磁化測定(磁化率の磁場依存性、温度依存性の測定)
・測定温度範囲:1.8 K~ 400 K
・印加磁場:0~7 T
・光照射サンプルホルダーオプション
・オーブンオプション (温度上限800 K)
設備状況
稼働中

高磁場多目的物性測定システム (Physical Property Measurement System)

設備ID
UE-002
設置機関
電気通信大学
設備画像
高磁場多目的物性測定システム
メーカー名
Quantum Design (Quantum Design)
型番
PPMS
仕様・特徴
比熱測定、磁化測定、電気抵抗測定、その他
・温度範囲:1.9 K~ 400 K
・印加磁場:0~ 9 T
・磁場均一性:0.1 x 10-4(9 T over 5.5 cm)
設備状況
稼働中

溶液NMR装置 (Liquid-State NMR spectrometer)

設備ID
UE-003
設置機関
電気通信大学
設備画像
溶液NMR装置
メーカー名
日本電子 (JEOL Resonance)
型番
ECA-500
仕様・特徴
NMR測定(化合物の分子構造の決定)
1H共鳴周波数:500 MHz
・多核NMR測定核種:15N~31P
・オートサンプルチェンジャ(24本)利用可能
設備状況
稼働中

DSC粉末X線同時測定装置  (Powder X-ray diffractometer)

設備ID
UE-004
設置機関
電気通信大学
設備画像
DSC粉末X線同時測定装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
Ultima III
仕様・特徴
粉末X線回折測定、示差走査熱量(DSC)とXRDの同時測定
・Cu封入管線源 集中法/平行法切替ユニット
・DSC測定温度範囲:-40℃〜350℃
設備状況
稼働中

HPC型単結晶X線回折装置 (Single crystal X-ray diffractometer)

設備ID
UE-005
設置機関
電気通信大学
設備画像
HPC型単結晶X線回折装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
XtaLab Synergy-R/DW/RF
仕様・特徴
単結晶試料のX線結晶構造解析
・Cu & Moデュアルターゲット高輝度回転対陰極型X線発生装置
・試料位置でのX線光束:約130 µm
・窒素ガス吹付型試料冷却装置
設備状況
稼働中

顕微レーザーラマン分光計 (Raman spectrometer)

設備ID
UE-006
設置機関
電気通信大学
設備画像
顕微レーザーラマン分光計
メーカー名
日本分光 (JASCO Corporation)
型番
NRS-3100
仕様・特徴
固体試料表面の元素・化学状態分析
・空間分解能:1 µm
・532 nmレーザーと785 nmレーザーを搭載
・レーザー出力:100 mW (532 nm)
・マッピング測定(例:50 µm x 50 µm)可能
設備状況
稼働中

X線光電子分光装置 (X-ray Photoelectron Spectroscopy)

設備ID
UE-007
設置機関
電気通信大学
設備画像
X線光電子分光装置
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JPS-9200
仕様・特徴
固体試料の元素・化学状態分析
・標準X線源 (Al-Mgツインターゲット)
・最大負荷 Mg 500W,Al 600W
・単色化Al Kα線(Ag 3d5/2 半値幅: 0.65 eV)
・アルゴンイオンエッチング、紫外光分光分析(UPS)可能
設備状況
稼働中

電子スピン共鳴装置 (Electron spin resonance spectrometer)

設備ID
UE-008
設置機関
電気通信大学
設備画像
電子スピン共鳴装置
メーカー名
Bruker (Bruker)
型番
ELEXSYS
仕様・特徴
フリーラジカルの同定・定量
・分光器:約9 GHzの定常波
・変調周波数:1 MHzまで
・温度範囲:4.2 K~ 300 K
設備状況
稼働中

共焦点蛍光顕微鏡システム (Confocal Laser Scanning Fluorescence Microscope)

設備ID
UE-009
設置機関
電気通信大学
設備画像
共焦点蛍光顕微鏡システム
メーカー名
Carl Zweiss (Carl Zweiss)
型番
LSM710
仕様・特徴
生体試料などの顕微鏡観察
・励起用レーザーライン:405 nm、458 nm、488 nm、514 nm、561 nm、633 nm
・蛍光像の同時観察:最大34チャネルの異なる波長域の蛍光像を同時に取得可能
設備状況
稼働中

電子線元素状態分析装置 (Electron Probe Micro Analyzer)

設備ID
UE-011
設置機関
電気通信大学
設備画像
電子線元素状態分析装置
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JXA-8530F
仕様・特徴
固体試料表面の元素分析
・分析元素範囲 WDS: B~U、EDS: B~U
・二次電子分解能 3 nm (WD=11 mm、30 kV)
・分析条件最小プローブ径:40 nm (10 kV、1x1x10-8 A)
・走査倍率:x 40~ x 300,000 (WD=11 mm)
設備状況
稼働中
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