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電子ビーム蒸着装置

最終更新日:2022年4月9日
設備ID TU-167
分類 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
設備名称 電子ビーム蒸着装置 (EB evaporation)
設置機関 東北大学
設置場所 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名 アネルバ (Anelva)
型番 EVC-1501
キーワード Ag, Al, Au, Cr, Cu, In, Ni, Pt, Sn, Ti, V, W, InSb, GaSb, AlCu, AlSi
仕様・特徴 サンプルサイズ:小片~6インチ
同時処理枚数:4インチ×18枚、6インチ×4枚
同時に装着できる蒸着源:3個
基板温度:常温~350℃(ランプ加熱方式)
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-167
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