球面成膜用スパッタ装置
最終更新日：2023年7月4日
| 設備ID | TU-166 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | 球面成膜用スパッタ装置 (Sputtering for ball) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 3Fクリーンルーム |
| メーカー名 | 和泉テック (Izumi-tech) |
| 型番 | - |
| キーワード | 球面体へのスパッタリング Au、Cr、Al、Pd、SiO2など |
| 仕様・特徴 | サンプル：球体（直径1.0、3.3mm） O2プラズマクリーニング可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-166 |
