酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-164 |
|---|---|
| 分類 |
成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置 (High-temp. sputtering and O2 annealing) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | ユーテック (Youtec) |
| 型番 | 21-0604 |
| キーワード | 主にPZT等の圧電体下地材料のスパッタに利用 Ta、Ti、Pt、Ir、SrRuO3など |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～8インチ 3チャンバ構成：金属用(DC)スパッタチャンバ、酸化物用(RF)スパッタチャンバ、酸素加圧アニールチャンバ 基板温度：最高700℃（ランプ加熱方式） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-164 |
