アネルバマルチスパッタ
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | TU-163 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | アネルバマルチスパッタ (Anelva multi-sputtering) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | アネルバ (Anelva) |
| 型番 | SPC-350 |
| キーワード | ロードロック付、クライオポンプでの排気による高性能膜のスパッタ |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ、同時処理枚数：4インチ×6枚 基板温度：室温～650℃ 電源：DC×2、RF×1（同時放電可能） ターゲット：6インチ×3（強磁性体対応） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-163 |
