ECRロングスロースパッタ
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | TU-162 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | ECRロングスロースパッタ (ECR long-throw sputter) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | エリオニクス (Elionix) |
| 型番 | EIS-200ERP-NPD-TK |
| キーワード | 直進性のよいスパッタ粒子による成膜が可能で、リフトオフに最適 Al、Cr、Auなど |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～6インチ 基板温度：20℃ ターゲット：4インチ× 2 ターゲット‐ステージ間距離 ：350ｍｍ 到達真空度：3E-4Pa エッチング可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-162 |
