芝浦スパッタ装置（冷却型）
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | TU-159 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | 芝浦スパッタ装置（冷却型） (Shibaura sputtering (Cooling)) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | 芝浦メカトロニクス (Shibaura Mechatronics) |
| 型番 | CFS-4ESII |
| キーワード | 汎用の多目的スパッタ（基板水冷タイプ） 30種以上のターゲットを保有 リフトオフプロセス等の用途で、レジストなどポリマー導入OK |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～6インチ サンプルステージ：直径200mm 基板温度：約20℃ 電源：RF×1 ターゲット：3インチ×3 方式：スパッタSIDE 到達真空度：3E-4Pa |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-159 |
