分光エリプソ
最終更新日：2025年3月18日
| 設備ID | TU-329 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター |
| 設備名称 | 分光エリプソ (Spectroscopic Ellipsometer) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社 (J. A. Woollam) |
| 型番 | RC2-UI-TTk |
| キーワード | 薄膜の厚さ、屈折率測定 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～8インチ 測定波長域：210～1690 nm 入射角可変範囲：45～90度 ビーム径：通常3 mm サンプルステージ：φ200 mm (自動マッピング、自動アライメント機構付） 測定データ：分光エリプソメトリーデータ（Ψ Δ）、ミューラー行列16成分、透過率、反射率、偏光解消度 解析ソフトウェア：CompleteEASE |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-329 |
