プラズマ集束イオンビーム加工装置
最終更新日:2024年7月26日
設備ID | TU-521 |
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分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB) |
設備名称 | プラズマ集束イオンビーム加工装置 (Dual-Beam Plasma FIB System ) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学片平キャンパス金属材料研究所 |
メーカー名 | 東洋テクニカ (Toyo Corporation) |
型番 | TESCAN Amber-X |
キーワード | デュアルビームFIB 大面積加工 マイクロサンプリング シリアルセクショニング 姿勢制御マニピュレータ(OptiLift) EDS, SIMS |
仕様・特徴 | ・SEM: 加速電圧 0.5 kV~30 kV 高輝度ショットキー電子銃 ・FIB: 加速電圧 1 kV~30 kV Xeイオン銃、1pA-3μA ・保護膜形成 Pt蒸着・C蒸着 ・ロッキングステージ、姿勢制御マニピュレータ(OptiLift) ・シリアルセクショニング ・分析機能:EDS、SIMS |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-521 |