プラズマ集束イオンビーム加工装置
最終更新日：2024年7月26日
| 設備ID | TU-521 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 設備名称 | プラズマ集束イオンビーム加工装置 (Dual-Beam Plasma FIB System ) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学片平キャンパス金属材料研究所 |
| メーカー名 | 東洋テクニカ (Toyo Corporation) |
| 型番 | TESCAN Amber-X |
| キーワード | デュアルビームFIB 大面積加工 マイクロサンプリング シリアルセクショニング 姿勢制御マニピュレータ（OptiLift） EDS, SIMS |
| 仕様・特徴 | ・SEM: 加速電圧 0.5 kV～30 kV 高輝度ショットキー電子銃 ・FIB: 加速電圧 1 kV～30 kV Xeイオン銃、1pA-3μA ・保護膜形成 Pt蒸着・C蒸着 ・ロッキングステージ、姿勢制御マニピュレータ（OptiLift） ・シリアルセクショニング ・分析機能：EDS、SIMS |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-521 |
