高速マスクレス露光装置
最終更新日：2024年8月1日
| 設備ID | KT-156 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | 高速マスクレス露光装置 (High Speed Maskless Laser Lithography) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 桂キャンパス |
| メーカー名 | (株)ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions, Inc.) |
| 型番 | D-light DL-1000GS/KCH |
| キーワード | LED描画 グレースケール露光可 光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
| 仕様・特徴 | グレースケール露光機能を備えたDMD方式の高速マスクレス露光装置。 ・光源：h線LED（405nm）>1W/cm2 ・基板サイズ：MAXΦ6インチ ・最小画素:１µm ・グレースケール露光機能（最大256階調） ・厚膜レジスト対応（>100µm以上） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-156 |
