マスクレス露光装置
最終更新日：2024年8月1日
| 設備ID | KT-121 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Advanced Maskless Aligner) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments) |
| 型番 | MLA 150 |
| キーワード | ・波長375nm、DMD方式のマスクレス露光装置 ・裏面アライメントにも対応 |
| 仕様・特徴 | ・光源：レーザーダイオード（主波長375nm） ・最小描画線幅：1.0 µm、最小描画L/S：1.2 µm ・ワークサイズ：5 mm ～ 6 inchマスク、厚み：0.1 mm～10 mm ・露光均一性：120 nm（3σ） ・オートフォーカス：光学式・空気式の選択可 ・アライメント精度：5 mm×5 mmの範囲： 250 nm（3σ）、100 mm×100 mmの範囲： 500 nm（3σ） ・裏面アライメント制精度：1 µm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-121 |
