W-CVD
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-157 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | W-CVD (W-CVD ) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | Applied Materials (Applied Materials) |
| 型番 | P-5000 |
| キーワード | W（タングステン）熱CVD |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～4インチ 成膜温度：450℃（ランプ加熱方式） カセットtoカセット プロセスガス：SiH4、H2、WF6、NF3、Ar、N2 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-157 |
