光干渉式膜厚測定装置
設備ID | GA-016 |
---|---|
分類 | 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
装置名称 | 光干渉式膜厚測定装置 (Film thickness measurement instruments) |
設置機関 | 香川大学 |
設置場所 | 香川県科学技術研究センター |
メーカー名 | シータメトリシス (ThetaMetrisis) |
型番 | FR-Scanner-AIO-Mic-XY200 |
キーワード | 反射分光,光干渉,膜厚測定, 屈折率,薄膜,厚膜,マッピング,分布 |
仕様・特徴 | 測定膜厚範囲(SiO2):10nm – 80μm(10X) 測定精度:0.2% or 2nm 測定波長範囲:380nm~1020nm 多層膜測定:4層まで可能 測定スポット径:10,25,50,100μm 光源:ハロゲンランプ サンプルサイズ:Max.200 x 200 mm 光学フィルター:Y-48、R-60 その他:自動マッピング |