光干渉式膜厚測定装置
最終更新日：2024年6月14日
| 設備ID | GA-016 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
| 設備名称 | 光干渉式膜厚測定装置 (Film thickness measurement instruments) |
| 設置機関 | 香川大学 |
| 設置場所 | 香川県科学技術研究センター |
| メーカー名 | シータメトリシス (ThetaMetrisis) |
| 型番 | FR-Scanner-AIO-Mic-XY200 |
| キーワード | 反射分光,光干渉,膜厚測定, 屈折率,薄膜,厚膜,マッピング,分布 |
| 仕様・特徴 | 測定膜厚範囲（SiO2）：10nm – 80μm（10X） 測定精度：0.2% or 2nm 測定波長範囲：380nm～1020nm 多層膜測定：4層まで可能 測定スポット径：10,25,50,100μm 光源：ハロゲンランプ サンプルサイズ：Max.200 x 200 mm 光学フィルター：Y-48、R-60 その他：自動マッピング |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=GA-016 |
