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JPEL PECVD

設備ID	TU-156
分類	成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置
装置名称	JPEL PECVD (JPEL PECVD)
設置機関	東北大学
設置場所	東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名	日本生産技術研究所 (JPEL)
型番	VDS-5600
キーワード	大型のバッチ式のプラズマCVD SiN、SiO₂
仕様・特徴	同時処理枚数：4インチ×13枚、または6インチ×8枚

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