JPEL PECVD
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-156 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | JPEL PECVD (JPEL PECVD) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | 日本生産技術研究所 (JPEL) |
| 型番 | VDS-5600 |
| キーワード | 大型のバッチ式のプラズマCVD SiN、SiO2 |
| 仕様・特徴 | 同時処理枚数：4インチ×13枚、または6インチ×8枚 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-156 |
