電子線描画用データ処理ソフトウェア
設備ID | NU-268 |
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分類 |
リソグラフィ > その他 理論計算・シミュレーション > CAD |
装置名称 | 電子線描画用データ処理ソフトウェア (Data analysis software for electron beam lithography) |
設置機関 | 名古屋大学 |
設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
メーカー名 | GenISys (GenISys) |
型番 | BEAMER |
キーワード | 近接効果補正 パターンデータ変換 グレースケール露光 |
仕様・特徴 | ・レイアウトエディタ ・パターンデータ変換 ・近接効果補正(PEC) ・グレースケール露光補正 |