電子線描画用データ処理ソフトウェア
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | NU-268 |
|---|---|
| 分類 |
リソグラフィ > その他 理論計算・シミュレーション > CAD |
| 設備名称 | 電子線描画用データ処理ソフトウェア (Data analysis software for electron beam lithography) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | GenISys (GenISys) |
| 型番 | BEAMER |
| キーワード | 近接効果補正 パターンデータ変換 グレースケール露光 |
| 仕様・特徴 | ・レイアウトエディタ ・パターンデータ変換 ・近接効果補正（PEC） ・グレースケール露光補正 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-268 |
