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全反射蛍光X線分析装置TXRF-3760

最終更新日:2024年4月4日
設備ID UT-862
分類 状態分析(各種分光法(元素分析・振動モード・電子状態)を含む) > その他
設備名称 全反射蛍光X線分析装置TXRF-3760 (Total internal reflection fluorescence X-ray analyzer)
設置機関 東京大学
設置場所
メーカー名 (株)リガク (Rigaku Corporation)
型番 TXRF 3760
キーワード 元素分析
汚染物質解析
仕様・特徴 ウェーハ表面上の汚染を非破壊・非接触で高感度に分析。
液体窒素フリー検出器を備えた3ビームTXRFシステム。
ナトリウムからウランまでの元素検出が可能。
解析に時間と経験を要するため、当面技術代行(代行料が上乗せになる)にての公開。
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-862
    全反射蛍光X線分析装置TXRF-3760
    全反射蛍光X線分析装置TXRF-3760
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