住友精密TEOS PECVD
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-154 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | 住友精密TEOS PECVD (Sumitomo TEOS PECVD) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products) |
| 型番 | MPX-CVD |
| キーワード | 通常TEOS SiO2、SiH4ベースSiO2専用 TEOS SiO2の低応力、厚膜成膜可能 SiON、SiNも可能 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～8インチ 基板温度：最高350℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-154 |
