大気非暴露対応冷却クロスセクションポリッシャ
最終更新日：2024年4月4日
| 設備ID | UT-158 |
|---|---|
| 分類 |
微小加工装置 > イオンミリング（断面加工） 微小加工装置 > イオンミリング（断面加工） |
| 設備名称 | 大気非暴露対応冷却クロスセクションポリッシャ (Cooling cross section polisher for non-exposure to atmosphere) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | |
| メーカー名 | 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.) |
| 型番 | IB-19520CCP |
| キーワード | 試料作製、断面ミリング、平面ミリング、冷却、大気非曝露機能、走査型電子顕微鏡、分析電子顕微鏡、元素分析、TEM、STEM、半導体、セラミックス |
| 仕様・特徴 | イオン加速電圧 2～8kV ミリングスピード 500μm/h以上 (加速電圧8kV) 試料スイング機能±30°自動スイング 自動加工開始モード 〇 自動冷却加工開始モード / 自動室温復帰モード 〇 試料ステージ冷却到達温度 －120°C以下 冷却温度設定範囲 －120～0°C 試料冷却－100°C到達時間 60分以内 試料冷却保持時間 8時間以上 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-158 |
