UVナノインプリント露光装置
| 設備ID | IT-039 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > ナノインプリント |
| 装置名称 | UVナノインプリント露光装置 (UV Nanoimprint Lithography System) |
| 設置機関 | 東京工業大学 |
| 設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
| メーカー名 | EVG (EVG) |
| 型番 | EVG620NT |
| キーワード | 微細構造形成、ナノインプリント/ nanoimprint lithography |
| 仕様・特徴 | UVによるナノインプリント露光装置。4inchまで対応。解像度限界 L/S 50nm。 |
