反応性プラズマ蒸着（RPD）装置
最終更新日：2024年3月27日
| 設備ID | TT-034 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > その他 |
| 設備名称 | 反応性プラズマ蒸着（RPD）装置 (Reactive plasma deposition: RPD) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | 通常実験室 |
| メーカー名 | 住友重機械工業 (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) |
| 型番 | RPD-PCS4/LC |
| キーワード | 蒸着（抵抗加熱、電子線）。成膜装置。シリコン基材料・デバイス。薄膜。太陽電池 |
| 仕様・特徴 | ITO透明導電膜成膜 基板サイズ 156×156mm 基板温度 max200℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TT-034 |
