反応性プラズマ蒸着（RPD）装置
| 設備ID | TT-034 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > その他 |
| 装置名称 | 反応性プラズマ蒸着（RPD）装置 (Reactive plasma deposition: RPD) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | 通常実験室 |
| メーカー名 | 住友重機械工業 (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) |
| 型番 | RPD-PCS4/LC |
| キーワード | 蒸着（抵抗加熱、電子線）。成膜装置。シリコン基材料・デバイス。薄膜。太陽電池 |
| 仕様・特徴 | ITO透明導電膜成膜 基板サイズ 156×156mm 基板温度 max200℃ |
