電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]
最終更新日：2024年3月27日
| 設備ID | NM-665 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 電子銃型蒸着装置 [ADS-E810] (EB Evaporator [ADS-E810]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 504号室 |
| メーカー名 | アールデック (R-DEC) |
| 型番 | ADS-E810 |
| キーワード | 蒸着、薄膜、金属、リフトオフ、電子銃、EB、蒸着（抵抗加熱、電子線）/ Evaporation (resistance heating and electron beam) |
| 仕様・特徴 | ・蒸着方式：電子銃型 ・ターゲット：Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他 ・到達真空度：10-5 Pa ・ＴＳ間距離：500 mm ・最大試料サイズ：φ8inch ・その他：ロードロック式、水冷式試料ステージ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-665 |
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