スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4]
最終更新日：2024年3月27日
| 設備ID | NM-664 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4] (Sputter [CFS-4EP-LL #4]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 504号室 |
| メーカー名 | 芝浦メカトロニクス株式会社 (SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION) |
| 型番 | CFS-4EP-LL |
| キーワード | スパッタ、成膜、金属、絶縁膜、RF、DC、反応性スパッタ、逆スパッタ、スパッタリング（スパッタ）/ Sputtering |
| 仕様・特徴 | ・電源：DC×２、RF×１ ・電源出力：500W（最大） ・カソード：φ3インチ×4式 ・基板サイズ：最大8inchφ ・プロセスガス：Ar、O2、N2 ・基板加熱：設定300℃ ・逆スパッタ可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-664 |
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