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LPCVD

設備ID	TU-151
分類	成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置
装置名称	LPCVD (LPCVD)
設置機関	東北大学
設置場所	東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名	システムサービス (System service)
型番	-
キーワード	減圧CVD SiN、SiO₂(HTO)、PolySi(non-doped、P-doped)
仕様・特徴	サンプルサイズ：小片～6インチ