集束イオンビーム加工観察装置（FIB）
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | UT-156 |
|---|---|
| 分類 |
微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） 走査型顕微鏡 > |
| 設備名称 | 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） (MultiBeam System (FIB)) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 東京大学浅野キャンパス工学部9号館 |
| メーカー名 | 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.) |
| 型番 | JIB-PS500i |
| キーワード | 試料作製、薄膜作製、断面試料、3D画像、電子顕微鏡、半導体、セラミックス、SEM、FIB、TEM、STEM |
| 仕様・特徴 | □ 特長 ・ 高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能 ・ 高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能 ・ インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 500nA の大電流による安定した高速分析が可能 ・ STEM観察が可能（BF,HAADF） □ 主な仕様 FIB（収束イオンビーム） ・ イオン源：Ga液体金属イオン源 ・ 加速電圧：0.5～30kV ・ 倍率：×50～×300,000 ・ イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット SEM（電子ビーム） ・ 加速電圧：0.01～30kV ・ 倍率：×20～×1,000,000 ・ 像分解能：0.7nm（加速電圧15kV）、1.0nm（加速電圧1kV） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-156 |
