電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS]
| 設備ID | NM-661 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 装置名称 | 電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS] (EB Lithography [JBX-8100FS]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟119室 |
| メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
| 型番 | JBX-8100FS |
| キーワード | リソグラフィ、描画、露光、電子ビーム、EB、パターニング、電子線描画（EB）/ Electron beam lithography |
| 仕様・特徴 | 1. 最高加速電圧200kV 2. クロック周波数125MHz 3. 12カセット自動搬送 4. 最大8インチウェハ対応 |
![電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS]](data/facility_item/1701398235_11.jpg)