電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-661 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS] (EB Lithography [JBX-8100FS]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟119室 |
| メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
| 型番 | JBX-8100FS |
| キーワード | リソグラフィ、描画、露光、電子ビーム、EB、パターニング、電子線描画（EB）/ Electron beam lithography |
| 仕様・特徴 | 1. 最高加速電圧200kV 2. クロック周波数125MHz 3. 12カセット自動搬送 4. 最大8インチウェハ対応 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-661 |
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