マスクレス露光装置
設備ID | NU-260 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画) |
装置名称 | マスクレス露光装置 (Maskless lithography) |
設置機関 | 名古屋大学 |
設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
メーカー名 | ネオアーク (NEOARK) |
型番 | PALET DDB-701-DL4 |
キーワード | マスクレス露光 |
仕様・特徴 | ・露光領域:100mm x 100mm ・最大ワークサイズ:Φ150mm x 10mm ・光源:365nm LED ・最小画素:3µm(対物レンズx10),15µm(対物レンズx2) |