マスクレス露光装置
最終更新日：2023年9月7日
| 設備ID | NU-260 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless lithography) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | ネオアーク (NEOARK) |
| 型番 | PALET DDB-701-DL4 |
| キーワード | マスクレス露光 |
| 仕様・特徴 | ・露光領域：100mm x 100mm ・最大ワークサイズ：Φ150mm x 10mm ・光源：365nm LED ・最小画素：3µm（対物レンズx10），15µm（対物レンズx2） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-260 |
