シンクロン スパッタ装置
最終更新日：2023年6月14日
| 設備ID | TU-172 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | シンクロン スパッタ装置 (Shincron sputtering) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 3Fクリーンルーム |
| メーカー名 | シンクロン (Shincron) |
| 型番 | RAS-1100BII |
| キーワード | 光学用多層膜の成膜等 Si, Ta, Al, W, SiO2, SiN, Ta2O5 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：4インチ ラジカルアシストにより、緻密な酸化、窒化が可能 基板RFバイアス付 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-172 |
