シンクロン スパッタ装置
設備ID | TU-172 |
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分類 | 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) |
装置名称 | シンクロン スパッタ装置 (Shincron sputtering) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 3Fクリーンルーム |
メーカー名 | シンクロン (Shincron) |
型番 | RAS-1100BII |
キーワード | 光学用多層膜の成膜等 Si, Ta, Al, W, SiO2, SiN, Ta2O5 |
仕様・特徴 | サンプルサイズ:4インチ ラジカルアシストにより、緻密な酸化、窒化が可能 基板RFバイアス付 |