真空アニール炉
最終更新日：2023年6月14日
| 設備ID | TU-109 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | 真空アニール炉 (Vacuum annealing) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 3Fクリーンルーム |
| メーカー名 | アドバンス理工 (Advance Riko) |
| 型番 | RHL-Pss98/98# |
| キーワード | 真空中での熱処理 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～4インチ 赤外線ランプ加熱 基板温度：最高1000℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-109 |
